제품 정보
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현상・에칭・박리
대형 마스크 프로세서
대형화하는 디스플레이에 따라 회로 패턴을 형성하는 포토 마스크도 대형화하고 있습니다.포토 마스크 위에 도포된 레지스트에 패턴노광 후, 현상 처리・에칭처리를 하는 장치입니다.
마스크 프로세서는 로더/언로더, 반송기, 스핀현상장치, 스핀에칭장치로 구성된 장치입니다.
용도
대형 포토 마스크 제조공정
특징
- AGV、MGV에 대응 가능
- 여러 사이즈를 설정 가능합니다 (마스크 사이즈에 대해서는 문의 부탁드립니다.).
- 슬릿 노즐을 채용
제품 사양 스펙
- 장비 크기
- 6500D×22300W×3600H
- 전원
- AC200/AC220V Φ3 50/60Hz 180KVA
- DIW
- 205lpm
- CDA
- 500slpm
- N2
- 650slpm
- 배기
- 357m3/min