单晶片处理型/旋转型蚀刻设备

一种用于在基板和胶卷上蚀刻形成的金属膜的设备

特征

可用于各种蚀刻方法，如淋浴，喷雾和浸

建议使用化学溶液管理系统（降低运行成本）