产品信息
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显影・蚀刻・剥离
大型掩模处理设备
根据越来越大的显示器,形成电路图案的光掩模也越来越大。该设备将图案曝光到涂了抗蚀剂在光掩模上,然后进行显影和蚀刻处理。
掩模处理设备由装载机/卸载机,输送机,旋转型显影设备和旋转型蚀刻设备组成。
用途
大尺寸光掩模制造工艺
特征
- 支持AGV、MGV
- 可以设置多个大小(尺寸大小详细请咨询。)
- 采用狭缝喷嘴
产品规格规范
- 设备尺寸
- 6500D×22300W×3600H
- 电源
- AC200/AC220V Φ3 50/60Hz 180KVA
- DIW
- 205lpm
- CDA
- 500slpm
- N2
- 650slpm
- 排气
- 357m3/min