显影・蚀刻・剥离

大型掩模处理设备

根据越来越大的显示器,形成电路图案的光掩模也越来越大。该设备将图案曝光到涂了抗蚀剂在光掩模上,然后进行显影和蚀刻处理。
掩模处理设备由装载机/卸载机,输送机,旋转型显影设备和旋转型蚀刻设备组成。

用途

大尺寸光掩模制造工艺

特征

支持AGV、MGV
可以设置多个大小(尺寸大小详细请咨询。)
采用狭缝喷嘴

产品规格规范

设备尺寸
6500D×22300W×3600H
电源
AC200/AC220V Φ3 50/60Hz 180KVA
DIW
205lpm
CDA
500slpm
N2
650slpm
排气
357m3/min

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