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減圧乾燥装置

減圧乾燥装置

  • 減圧乾燥装置

製品概要

レジスト塗布後の乾燥を真空チャンバー内で行う装置。

主な用途

  • レジスト塗布後の乾燥 (VCD)
  • ベーク工程

特徴

  • スロー排気からメイン排気に切替える 2 段階排気により風紋や発泡の発生を抑えた乾燥をすることが可能
  • 常温乾燥することにより、ピン支持部のムラを抑えた 乾燥をすることが可能
  • 減圧乾燥することにより、ベーク行程の時間短縮をすることが可能

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